中国成功研制超分辨率光刻机 有关公司受关注

  e公司讯,中国科学院光电技术钻研所承担的国家庞大科研装备——超分辨光刻装备项现在议决验收,这个项现在最主要的收获就是中国科学家研发成功世界始台分辨力最高的紫表超分辨光刻机,365nm波长即可生产22nm工艺芯片,议决众重曝光等手法能够实现10nm以下的芯片生产。光刻机是半导体制造业中最中间的设备。南大光电(300346,股吧)参股的北京科华是国内光刻胶周围的龙头企业。晶瑞股份是国内稀缺的实现了IC制造商行使的i线光刻胶量产的企业。(怀新资讯)